西瓜改良式前期生长的环境条件

　　在生产实践和试验中对地膜平面授盖进行了改进，克服了平盖的一些缺陷，保证了西瓜前期生长的环境条件。如烘干穴式和沟式，前期使苗子在膜下生长，伸蔓期后再让苗子在膜上面生长。这几种方式通称为改良式地膜覆盖，也称是先益天后盖地式覆盖。

　　拱式覆盖不论是育苗移栽或者催芽直播，在播种或定植畦上或者垄上，用柳条或紫德槐条作成宽厘米高‘，厘米长度不限的小拱棚，地膜扣好，令苗子在小拱棚'E生长。小拱棚里的温度比房地温度一胶高以上。同时，也能防风，在春季低温多风季节，采用这种方式种植西瓜很适宜。幼苗在小拱棚生长过程巾，要注意棚内的温度变化。可根据情况在上午点钟后温度在℃左有时应进行通风降温，以防烤苗。幼苗在小棚内可生长天左右。应以苗子伸蔓为准，当西瓜苗出现—片真叶时可将小棚拱架撤去，格膜开口令植株露出，地膜压在地面上，作地膜盖好。

　　穴式覆盖也称窑穴平盖法。具体作法在已作好的吱面，按照规定的株行距，挖成窑穴。穴的大小和深度应根据苗子在穴内生长时间长短而定。一般情况是穴的形式为个图形，南侧为半圆，北侧为直线形v穴区南低北高，以利寸；阳光照射。半圆半径为—匣米。深为厘米。将催芽的种子播于穴的北面，栽苗也同样树苗栽于靠穴的北侧。然后将膜平盖于硅面上。这种方式不用支架，苗子在面积很小的六内生长，穴内温度变化幅度很大，要注意通风。特别是征晴天的中午前后温度—亡升很快，要进行通风降温，以防烤

以上内容由西瓜网为您提供，了解更多的西瓜咨询请点击宁夏西瓜。